在這些成分分析方法中有—些已經(jīng)有很長的歷史，并且已經(jīng)成為普及的常規(guī)的分析手 段。如質(zhì)譜已是鑒定未知有機化合物的基本手段之一，其重要貢獻是能夠提供該化合物的分子量和元索組成的信息；色 譜中特別是裂解氣相色譜（PGC)能較好顯示高分子類材料 的組成特征，它和質(zhì)譜、紅外光譜、薄層色譜、凝膠色譜等 的聯(lián)用，大大地擴展了其使用范圍。紅外光譜在高分子材料的表征上有著特殊重要地位，紅外光譜測試不僅方法簡單， 而且也由于積累了大量的已知化合物的紅外譜圖及各種基團的特征頻率等數(shù)據(jù)資料而使測試結果的解析更為方便。核磁 共振譜雖然經(jīng)常是作為紅外光譜的補充，但其對聚合物的構型及構象的分析，對于立構異構體的鑒定，對于共聚物的組成定性、定量及序列結構測定有著獨特的長處，許多信息是 其他方法難以提供的。

在材料的結構測定中，X射線衍射分析仍是ZUI主要的方法。這一技術包括德拜粉末照相相分析，高溫、常溫、低溫 衍射儀，背反射和透射勞厄照相，測定單晶結構的四圓衍射儀，織構的極圖測定等。在計算機及軟件的幫助下，只要提供試樣的尺寸及完整性滿足一定要求，現(xiàn)代的X射線衍射 儀就可以打印出測定晶體樣品有關晶體結構的詳盡資料。

但X射線不能在電磁場作用下會聚，所以要分析尺寸在微米量級的單晶晶體材料需要更強的X射線源，才能采集到可供分析的X射線衍射強度。由于電子與物質(zhì)的相互作用比X 射線強四個數(shù)量級，而且電子束又可以會聚得很小，所以電 子衍射特別適用于測定微細晶體或材料的亞微米尺度結構。 電子衍射分析多在透射電子顯微鏡上進行，與X射線衍射 分析相比，選區(qū)電子衍射可實現(xiàn)晶體樣品的形貌特征和微區(qū)晶體結構相對應，并且能進行樣品內(nèi)組成相的位向關系及晶 體缺陷的分析。而以能量為10~1000 eV的電子束照射樣品表面的低能電子衍射，能給出樣品表面1~5個原子層的結 構信息.成為分析晶體表面結構的重要方法，已應用于表面 吸附、腐蝕、催化、外延生長、表面處理等表面工程領域。

中子受物質(zhì)中原子核散射，所以輕重原子對中子的散射能力差別比較小，中子衍射有利于測定輕原子的位置，如液氮溫 區(qū)的新型超導體的超導臨界溫度與晶體結構中氧原子空位有一定關系，目前X射線、電子衍射、高分辨像對氧原子空 位的測定都無能為力，中子衍射則可以提供較多的信息。在 結構測定方法中，值得特別一提的是熱分析技術。熱分析技術雖然不屬于衍射法的范疇，但它是研究材料結構特別是高 分子材料結構的一種重要手段。熱分析技術的基礎是當物質(zhì)的物理狀態(tài)和化學狀態(tài)發(fā)生變化時（如升華、氧化、聚合、 固化、脫水、結晶、降解、熔融、晶格改變及發(fā)生化學反應），通常伴有相應的熱力學性質(zhì)（如熱焓、比熱容、導熱 系數(shù)等）或其他性質(zhì)（如質(zhì)量、力學性質(zhì)、電阻等）的變化，因此可通過測定其熱力學性質(zhì)的變化來了解物質(zhì)物理或 化學變化過程，它不但能獲得結構方面的信息，而且還能測定一些物理性能。

 那么拉力機制造的材料是怎么測定的呢?

      材料的組織形貌觀察，主要是依靠顯微鏡技術，光學顯微鏡是在微米尺度上觀察材料的普及方法，掃描電子顯微鏡與透射電子顯微鏡則把觀察的尺度推進到亞微米和微米以下的層次。由于近年來掃描電鏡的分辨率的提高，所以可以直 接觀察部分結晶高聚物的球晶大小完善程度、共混物中分散 相的大小、分布與連續(xù)相（母體）的混溶關系等。

80年代末其分辨率提高到0.7 nm,超晶格試樣只要在疊層的側(cè)面進行適當?shù)哪ス獗憧稍趻呙桦婄R下得到厚度僅為幾個或十幾個 納米的交替疊層的清晰圖像。透射電鏡的試樣制備雖然比較復雜，但在研究晶體材料的缺陷及其相互作用，微小第二相 質(zhì)點的形貌與分布，利用高分辨點陣像直接顯示材料中原子 (或原子集團）的排列狀況等方面，都是十分有用的。現(xiàn)代 電子透鏡的分辨率可以達到0.2 run甚至更高，完全可以在 有利的取向下將晶體的投影原子柱之間的距離清楚分開，透射電鏡提供晶體原子排列直觀像的能力正得到越來越廣泛的 應用。場離子顯微鏡（FIM)利用半徑為50 ran的探針尖端 表面原子層的輪廓邊緣電場的不同，借助氦、氖等惰性氣體產(chǎn)生的電離化，可以直接顯示晶界或位錯露頭處原子排列及 氣體原子在表面的吸附行為，可達0.2 ~ 0.3 run的分辨率。 20世紀80年代初期發(fā)展的掃描隧道顯微鏡（STM)和80年代中期發(fā)展的原子力顯微鏡（SFM),克服了透射電子顯微 鏡景深小、樣品制備復雜等缺點，借助一根針尖與試樣表面之間隧道效應電流的調(diào)控，在將針尖在表面作x, y方向掃 描的同時，在保持隧道效應電流恒定的電路控制下，針尖將依表面的原子起伏而在z方向上下游動。這種移動經(jīng)電信號 放大并由計算機進行圖像處理，可以在三維空間達到原子分 辨率，得到表面原子分布的圖像.其縱、橫向分辨率分別達 到0.05及0.2 nm,為材料表面表征技術開拓了嶄新的領域. 與此技術有關的利用近程作用力而設計出來的原子力顯微鏡 等也在發(fā)展，在探測表面深層次的微現(xiàn)結構上顯示了無與倫 比的優(yōu)越性。在有機分子的結構中，應用STM已成功觀察 到苯在Rh (3+)晶面的單層吸附，并且顯示清晰的Kekule 環(huán)狀結構。

需要特別提及的是，近年來由于材料表面技術的發(fā)展， 對確定表面層結構與成分的分析測試需求迫切。一種以X 射線光電子能譜、俄歇電子能譜、低能離子散射譜儀為代表 的分析系統(tǒng)的使用日益重要。其中X射線光電子能譜 (XPS)——也稱為化學分析光電子能譜（ESCA),是用單色 的軟X射線轟擊樣品導致電子的逸出，通過測定逸出的光 電子可以無標樣直接確定元索及元*含量，目前已成為從生 物材料、高分子材料到金厲材料的廣闊范圍內(nèi)進行表面分析的不可缺少的工具之一。俄歇電子能譜（AES)由于俄歇電 子在樣品淺層表面逸出過程中沒有能量的損耗，因此從特征能量可以確定樣品元素成分，同時能確定樣品表面的化學性 質(zhì)，借助電子束的高分辨率，故可以進行三維區(qū)域的微觀分析。二次離子質(zhì)譜（SIMS)是采用細離子束轟擊固體樣品， 它們有足夠能墩使樣品產(chǎn)生離子化的原子或原子團，二次離子被加速后在質(zhì)譜儀中根據(jù)荷質(zhì)比不同分類，從而提供包含 樣品表面各種官能團和各種化合物的離子質(zhì)譜。在無法利用上述手段進行材料表面成分表征的情況下，可以采用紅外光 譜的衰減全反射（ATR)技術進行測試。ATO技術的優(yōu)點是 不需要進行復雜的分離，不破壞材料的表面結構，而且制樣方法簡單易行，可以得到高質(zhì)量的表面紅外譜圖，是一種對材料特別是高分子材料很實用的表面成分分析技術。

綜上所述,亞諾天下儀器對各種材料了如指掌,這樣決定了拉力機所使用材料的高質(zhì)量,這是其它的儀器廠商不具備的條件,一個有技術實力內(nèi)涵的儀器生產(chǎn)商,不能對各種材料了解不能算是合格的,又怎么能保證拉力機的質(zhì)量呢?又怎么走向world呢?這是儀器行業(yè)必須思考的話題.